硫酸铜:是主盐,供给电沉积必需的Cu2+,浓度过低时,将降低电流密度上限,降低沉积速度,影响镀层光亮度;浓度过高时,会降低镀液的分散能力,同时因硫酸铜溶解度的限制,而析出硫酸铜结晶。应以180~220g/L为宜。
硫酸:主要作用是提高溶液的导电性。硫酸浓度过低时导致阳极铜的不完全氧化,生成Cu2O,使镀层产生“铜粉”或毛刺,同时镀液的分散能力降低;硫酸浓度适当时,镀层电流密度范围宽,镀层光亮、整平能力达到最佳效果;硫酸浓度过高,影响镀层的光亮度和整平度。
氯离子:是阳极活性剂,可以帮助阳极正常溶解,抑制Cu+的产生,提高镀层光亮度、整平能力,降低镀层内应力。氯离子浓度过低,导致出现树枝状镀层,高电流区易烧然,镀层易出现麻点或针孔;氯离子浓度过高,导致阳极表面出现白色胶状膜层,无论添加多少光亮剂,镀层都不会光亮。氯离子浓度以40~100ml/L为宜。
添加剂:良好的添加剂组合会产生镀液稳定、产品合格率高、工作效率高的效果。当前添加剂及其材料多已商品化。不同要求的镀层对添加剂的要求也有区别。如装饰性镀层更重视缀层的起亮速度利高度整平性;防护装饰性镀层更重视镀层的整平性、柔软性;线路板镀层需要极好的低电流区效果,镀层分布均匀和镀层的延展性等, 镀铜添加剂主要有载体、光亮剂、整平剂和润湿剂四部分组成。
载体:好的载体可以佼光亮剂、整平剂的效果发挥到最佳.载体多为表面活性剂配制而成,不可能由单一材料达到最佳效果,如聚醚类化合物、乙二胺的四聚醚类阴离子化合物等。光亮剂利整平剂:右机多硫胺类化合物、有机多硫化合物、聚硫有机碳酸盐、有机染料等,在载体配合下具有光亮、整平的效果,两种效果可能出现在同一材料上,其中染料更偏重整平能力。湿润刑:可改善镀液的润湿作用。常用的有非离子型或阴离于型表面活性剂,如聚乙二醇、OP乳化剂等。光亮酸铜采用空气搅拌,只能选择低泡润湿剂。
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